2026年3月25日上午，全球半导体产业盛会——SEMICON China 2026在上海新国际博览中心隆重开幕。本届展会汇聚了全球1500家展商，覆盖芯片设计、制造、封测、设备、材料、光伏、显示等全产业链环节，展览总面积超过10万平方米，共同描绘逼近万亿美元规模的全球半导体产业新图景。迅杰光远旗下子公司光远芯程携半导体行业专业解决方案亮相E6馆6376展位，并在现场重点展示了面向湿法制程关键工艺的药液浓度分析仪。

在AI算力、先进封装、国产替代等议题持续升温的背景下，产业链对制程稳定性与成本控制提出了更高要求。迅杰光远此次展出的药液浓度分析仪，正是对这一趋势的精准回应。该设备专为半导体工业、FPD及太阳能等领域的关键清洗与刻蚀工艺设计，可广泛应用于湿法刻蚀、清洗及光阻去除等环节。通过实时监测药液浓度并实现闭环定量控制，设备能够帮助工作人员即时掌握工艺参数变化，有效降低药液消耗，减少因浓度波动导致的异常清洗与刻蚀问题，从而提升制程良率与生产稳定性。

在高端芯片制造过程中，纳米级杂质或微小缺陷都可能直接影响晶圆良率。作为全球半导体行业数十年来的主流技术，RCA标准清洗工艺的效果高度依赖于多种化学溶液的精确配比与稳定浓度。然而在实际生产中，药液因蒸发、消耗、交叉污染及重复使用等因素，其有效浓度时刻存在微小而关键的波动。传统的人工抽样、离线检测方式不仅存在滞后性，还伴随人为误差风险，已成为影响工艺一致性、制约良率提升的关键难点。

面对这一行业共性难题，迅杰光远将其在近红外光谱分析领域的技术积淀应用于半导体高精度场景。其自主研发的化学药液浓度计可直接集成至晶圆清洗机的药液循环管路中，实现对关键溶液成分的7×24小时不间断、高精度实时监测。该设备的强大之处在于其“微观掌控力”——能够精准感知溶液中活性组分微小的浓度偏差。一旦发现偏离预设工艺窗口，系统便会自动触发补液或稀释指令，将药液状态始终稳定在最优区间。

这一技术突破不仅为行业提供了进口替代的新选择，也为中国半导体产业链的自主可控增添了基础保障。据了解，迅杰光远是目前国内唯一批量装备在半导体清洗设备上的国产近红外品牌，成功打破了日本某厂商在晶圆清洗环节的长期垄断。公司负责人表示，目前已为超过5家半导体装备企业制定专业解决方案，其中包括某头部半导体装备企业。

展会期间，迅杰光远团队在E6馆6376展位进行现场演示与深入交流，向与会者展示其在半导体设备服务与定制化制造领域的综合能力。欢迎来宾莅临SEMICON China 2026 E6馆6376展位，共同探讨湿法制程工艺升级与国产化创新之路。